溅射镀膜是在真空条件下，利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。溅射镀膜具有膜层和基体的附着力强，膜层均匀性好等优点，适合各种金属、氧化物、半导体薄膜的制备，广泛应用于光伏、LED、微电子、硬质薄膜等领域。